Nano Ölçekte Devrim Yaratan Galyum Arsenit (GaAs) Wafer Teknolojisi - Nanografi

Nano Ölçekte Devrim Yaratan Galyum Arsenit (GaAs) Wafer Teknolojisi - Nanografi

Galyum arsenit (GaAs) wafer, kızılötesi yayan diyotlar, lazer diyotlar ve mikrodalga frekanslı entegre devreler gibi çeşitli cihazlarda kullanılan III-V direkt band aralıklı önemli bir yarı iletken türüdür. Ayrıca fotovoltaik hücrelerin üretiminde de kullanılmaktadır.

Galyum arsenit waferlar, yarı iletken malzeme endüstrisinde önemli bir rol oynar. Bu waferlar, ek yarı iletken malzemelerin epitaksiyal büyümesi için bir platform veya altlık olarak kullanılır. Bu teknolojinin temel amacı, tip III-V yarı iletkenlerin entegrasyonunu mümkün kılarak yüksek performanslı optoelektronik cihazlar, yüksek yoğunluklu p-i-n detektörleri ve dayanıklı silikon elektronik entegre devrelerle lazer diyotları gibi cihazları monolitik olarak birleştirmektir. Bu entegrasyon süreci, kullanım alanları çeşitlendirilebilen dayanıklı devrelerin oluşturulmasını sağlar. Örneğin, bu teknolojiyle birlikte daha dayanıklı elektronik entegre devreler geliştirilebilir ve çeşitli uygulamalarda kullanılabilir hale getirilebilir. Nanografi'nin galyum arsenit (GaAs) wafer ürünleri, yüksek performansı ve geniş bant genişliği sayesinde yüksek frekanslı uygulamalarda üstün sinyal iletimi sağlar.

Giriş

Galyum arsenit (GaAs), galyum ve arsenik bileşiklerinden oluşur. Önemli bir yarı iletken olan GaAs, kızılötesi emisyon diyotları, lazer diyotları, mikrodalga frekanslı entegre devreler ve fotovoltaik hücreler gibi cihazların imalatında yaygın olarak kullanılır. Galyum arsenit (GaAs) waferlar, üstün elektriksel ve optik özelliklere sahip tek kristal yapıya sahip olan galyum arsenitten oluşur. GaAs waferlar genellikle moleküler ışın epitaksisi (MBE) veya metalorganik buhar faz epitaksisi (MOVPE) gibi teknikler kullanılarak büyütülür. GaAs, doğrudan bir enerji boşluğuna sahip olan III-V bileşik bir yarı iletken olup, kızılötesi ve görünür ışık spektrumunda verimli bir şekilde ışık emisyonu ve emilimine izin verir. GaAs waferlar, silikondan daha yüksek elektron hareketliliğine sahiptir, bu da onları mikrodalga cihazlar, yüksek hızlı transistörler ve entegre devreler (IC'ler) gibi yüksek hızlı uygulamalar için uygun hale getirir.

Satın Al

Galyum Arsenit (GaAs) Wafer Yapısı

Galyum arsenit (GaAs) waferların yapısında, her bir galyum atomu arsenik atomlarıyla çevrelenir. Arsenik atomlarının 5 değerlik elektronu ve galyum atomlarının 3 değerlik elektronu birbirini paylaşır. Böylece her bir galyum ve arsenik atomu dış kabukta 8 değerlik elektron elde eder. GaAs waferlarda galyum ve arsenik atomları arasında kovalent bir bağ bulunur. Kovalent bağlar güçlü olsalar da yeterli miktarda dış enerji ile kırılabilirler.

Şekil 1: Galyum arsenit waferın yapısı. As ve Ga atomları sırasıyla büyük pembe ve küçük yeşil kürelerle temsil edilmektedir.

Galyum Arsenit Wafer Hazırlama Yöntemleri 

Buhar faz epitaksi (VPE) büyütme yöntemi: VPE, bir alt tabaka üzerine birkaç katman malzeme biriktirme yöntemidir. Bu yöntemde, uçucu bir öncül, yüzeyde kimyasal bir değişime uğrar ve katı bir birikinti oluşturur. Reaksiyon, hidrojen veya argon gibi gazların eklenmesiyle artırılabilir. Bu teknik, iyi malzeme özelliklerine sahip son derece homojen filmler üretebilir.

Gradient Freeze (GF) yöntemi: Bu yöntem genellikle tek kristal malzemelerin oluşturulması için kullanılır. İşlem, bir eriyiği yavaşça katılaştırmak için fırındaki sıcaklığı dikkatlice kontrol etmeyi içerir, bu da tek bir kristalin oluşumunu sağlar. Bu yöntemin faydası, üretilen kristalin genellikle yüksek kaliteli olması ve düşük hata yoğunluğuna sahip olmasıdır.

Şekil 2: Horizantal gradient freeze ile galyum arsenit sentezi.

Sıvı faz epitaksi (LPE) büyütme yöntemi: LPE, bir eriyik üzerindeki bir alt tabakaya tek kristal yarı iletken tabakaların büyütülmesinde kullanılan bir yöntemdir. Genellikle LED'ler gibi elektronik ve optoelektronik cihazların bileşenlerinin imalatında kullanılır.

Şekil 3: Sıvı faz epitaksi (LPE) için deneysel kurulum.

Sıvı kapsüllü Czochralski (LEC) yöntemi: Bu teknik, özellikle galyum arsenit gibi yarı iletkenlerin tek kristallerini büyütmek için kullanılır. Kristal, uygun bir kriko içinde bulunan bir eriyikten çekilir ve ismini, bir sıvı tarafından kapsüllendiği için kirlenmeye karşı korunur.

Molecular Beam Epitaxy (MBE) ve Metal-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MO-CVD): Galyum arsenit disklerin oluşturulmasında kullanılan daha yeni yöntemlerdir. MBE, bir veya daha fazla termalize edilmiş element veya bileşik kaynağın bir ışınının ısınmış bir yüzeyle etkileşimini içerir. Metal-organik kimyasal buhar biriktirme, çeşitli malzemelerin ince filmlerinin büyütülmesi için çok yönlü bir tekniktir. Her iki yöntem de çok kontrollü, yüksek kaliteli malzeme tabakalarının büyütülmesine izin verir.

Bridgman-Stockbarger tekniği: Bu, tek kristal malzemelerin büyütülmesi için başka bir yöntemdir. Temel prensip, malzemenin yavaşça bir sıcaklık gradyanı boyunca katılaşmaya hareket ettirilmesini içerir. Sıcak uçta malzeme erimiş haldeyken, soğuk uçta katı hale gelir.

Galyum Arsenit (GaAs) Wafer Özellikleri

Galyum arsenit (GaAs) waferlarının temel özellikleri şunlardır:

  • Galyum arsenit (GaAs) molar kütlesi 144.64 g/mol'dür.
  • Galyum arsenit (GaAs) erime noktası 1238 °C'dir.
  • Galyum arsenit (GaAs) yoğunluğu 5.32 g/cm3'tür. 

Galyum, silikona kıyasla üstün elektronik özelliklere sahiptir, yani daha yüksek elektron hareketliliği ve doymuş elektron hızına sahiptir. Bu, galyum arsenitin transistörlerde 250 GHz'ye kadar frekansta çalışmasına olanak tanır. Yüksek sıcaklıklara daha az duyarlıdır, elektronik devrelerde daha az gürültü üretir ve doğrudan band aralığına sahip olduğundan verimli ışık emilimi ve yayımı sağlar. Galyum arsenitin dirençli yapısı ve yüksek dielektrik sabiti, entegre devreler için ideal bir alt tabaka yapar ve bileşenler arasında doğal izolasyon sunar. Bu özellikler, galyum arsenitin uydu, cep telefonu, iletişim teknolojisi ve monolitik mikrodalga entegre devreler (MMIC'ler) gibi uygulamalarda umut vadeden bir aday olmasını sağlar. Yarı iletken cihazlarda kullanılan ince yarı iletken tabakaları olan waferlar, iyon implantasyonu, doplama, ince film kaplama gibi değişikliklere tabi tutularak etkili bir şekilde uygulanır.

Galyum Arsenit (GaAs) Wafer Kullanım Alanları

Galyum arsenitin (GaAs) ana kullanım alanları şu şekildedir:

-Bilgisayarlar 

-Fotovoltaik hücreler 

-Optoelektronik iletişim 

-Lazer diyotları ve kızılötesi yayılım

Galyum Arsetit (GaAs) Wafer kullanım alanlarının detaylı bir şekilde incelendiği blogumuzu okumak için buraya tıklayın.

GaAs Waferların Transistörlerde ve Bilgisayarlarda Kullanımı 

Galyum arsenit yarı iletken dilimi, galyum ve arsenik elementinden oluşan bir ikili bileşik olup, silikon ve germanyum gibi basit yarı iletkenlere kıyasla daha düşük termal iletkenliğe ve daha yüksek termal genleşme katsayısına (CTE) sahip olması nedeniyle transistör üretiminde imalat zorlukları sunar. Ayrıca, GaAs'a dayalı cihaz hatalarını anlamak, göreli olarak yeni kabul edilmesi nedeniyle silikona dayalı hatalardan daha karmaşık ve maliyetli olabilir. Bununla birlikte, GaAs'ın kalite, fiyat ve eklenen değer dengesini göz önünde bulundurduğumuzda, bu karmaşıklıklar ağır basar. Yüksek frekansları mümkün kılan teknolojiye ihtiyaç duyan büyüyen pazarlar, bu maliyetlerin dengelemesine katkıda bulunmaktadır.

Sipariş Verin

GaAs Waferların Savunma ve Havacılıkta Kullanımı

Galyum arsenit, kullanımı askeri ve havacılık alanında başladığından beri ticari pazarlara dahil edilmiştir. Periodik tabloda yarı iletken malzemeler grubuna aittir. Band aralığı, silisyum veya germaniyumdan daha geniştir. Elektronların hareketliliği de silisyum veya germaniyumdan daha yüksektir ve deliklerin hareketliliği de silisyumla benzerdir.

P tipi yarı iletkenlik sağlamak için galyum atomlarını yerine koyduklarında, çinko, kadmiyum veya bakır gibi malzemeler kullanılır, çünkü bu malzemeler GaAs'ın valans bandının üzerinde 0,08 ila 0,37 eV arasında izin verilen seviyeleri tanıtırlar. Donör malzemeler ise sülfür, selenyum ve periyodik tablonun IV grubu elementleridir ve küçük konsantrasyonlarda kullanılırlar.

GaAs, fotoelektrik hücreler, tünelleme diyotları, lazerler, yarı iletkenler ve MESFET transistörlerinde kullanılır.

GaAs'ın çeşitli devre topolojileri ve cihaz tipleri vardır. En baskın ve ticari olarak kullanılabilir olanı, DCFL (Direct Coupled FET Logic) ile doğrudan bağlantılı FET mantığıdır, ancak BFL mantığı (Buffered FET Logic) ve SDFL mantığı (Schottky Diyot FET Logic) da mevcuttur.

Yüksek Frekans Teknolojilerinde GaAs Waferların Kullanımı

Dopantlı N tipi GaAs'ın etkin yükünün kütlesi, aynı tipteki silisyumdan daha düşüktür, bu nedenle GaAs waferlarında elektronlar daha yüksek hızlarda ivmelendirilir ve transistor kanalını geçmek için daha az zaman harcarlar. Bu, yüksek frekanslarda çok kullanışlıdır, çünkü daha yüksek bir maksimum çalışma frekansına ulaşılabilir.

Bu olasılık ve yüksek frekanslarda çalışmayı gerektiren devrelerle çalışma ihtiyacı, savunma ve uzay endüstrilerinde, radarlar, güvenli iletişim ve sensörlerin kullanımında ortaya çıkar. Federal programlar tarafından geliştirildikten sonra, GaAs hızla kablosuz yerel ağlar (WLAN), kişisel iletişim sistemleri (PCS), canlı uydu iletimi (DBS), tüketici tarafından veri iletimi ve alımı, küresel konumlandırma sistemleri (GPS) ve mobil iletişim gibi yeni ticari pazarlara yayıldı. Tüm bu pazarlar, silisyum veya germaniyumla elde edilemeyen yüksek ve düşük frekanslarda çalışmayı gerektiriyordu.

Şekil 4: GaAs'ın yüksek frekanslı teknoloji uygulamalarında kulanımı.

Galyum Arsenit (GaAs) Yarı İletken Levhalarının Avantajları

Galyum arsenit waferları, güneş enerjisi sınıfı silikon levhalara göre neredeyse iki kat daha yüksek verim sunması avantajına sahiptir. GaAs waferının diğer bir avantajı, verimdeki artışla ilgilidir. Genellikle galyum arsenit, küçük bir levha üzerine tek bir ince tabaka olarak biriktirilir, ancak Illinois Üniversitesi'nde çoklu katmanlar oluşturularak levhalara biriktirme yapılmış ve daha yüksek bir verim elde edilmiştir. Birden fazla katman, çalışma alanındaki sınırlamaları ortadan kaldırır ve özellikle güneş pilleri için çok önemli olan geniş bir kapsama alanı sağlar. Böylece daha geniş bir kapsama alanı elde edilir, daha fazla enerji üretilir ve maliyet düşer. Arsenit kullanımı güneş pillerinde yeni bir şey değildir. Çok katmanlı hücrelerde yıllardır kullanılmaktadır.

Galyum Arsenit (GaAs) Yarı İletken Levhalarının Dezavantajları

GaAs waferlarıyla üretilen cihazlar 450 °C'ye kadar olan sıcaklıklarda çalışabilir. Ancak, bu avantajlarına rağmen kullanımı, silikonunkine göre bazı zorluklar ortaya koyar. Örneğin, silikonun aksine, basit CMOS mantık tarzı elemanlar üretmek için doğal bir oksit maskesi bulunmamaktadır.

Büyük dezavantajı ise, düşük kullanım oranını açıklayan fiyattır. Bu ikilemi çözmek için mühendisler ve araştırmacılar, düşük maliyetli galyum arsenit ince filmlerinin üretimine yönelik yeni yöntemler geliştirdiklerini söylüyorlar. Bu yöntemler sayesinde silikonun yerine geçecek cihazlar üretilebilir ve fotovoltaik hücrelerin verimliliği artırılabilir.

Sonuç

Galyum arsenit (GaAs), bir atom galyum ve bir atom arsenitten oluşur. Genellikle yarı iletkenlerin üretiminde olduğu gibi, elektronikte yaygın olarak kullanılır. Yukarıda açıklandığı üzere, bileşiğin bazı avantajları ve dezavantajları vardır. Bu bileşiğin fiyatının düzenlenmesi için çalışmalar devam etmektedir ve galyum arsenit (GaAs) waferlarının diğer sektörlerde de sunabileceği çok daha fazla potansiyel bulunmaktadır. Bu nedenle, istisnai kullanımlarını keşfetmek için araştırmaların devam etmesi gerekmektedir.

Nanografi olarak, işlerinizi geliştirme ve araştırmalarınıza üstün kaliteli ürünler temin etme amacıyla her geçen gün daha çok çalışıyoruz. Ürünlerimizi incelemek ve satın almak için web sitemizi ziyaret edin.


Kaynakça:

https://shop.nanografi.com.tr/blografi/galyum-arse...

https://www.researchgate.net/figure/Color-online-T...

http://www.wafertech.co.uk/growth.htm

https://tr.wikipedia.org/wiki/Galyum_arsenit

https://dergipark.org.tr/tr/download/article-file/...

https://tr.wikipedia.org/wiki/Galyum

https://tr.wikipedia.org/wiki/CMOS

https://tr.dsisolar.com/info/advantages-and-disadv...

https://www.waferworld.com/post/gaas-wafer-major-u...


12th Jul 2023 Nanografi Nano Teknoloji

Recent Posts